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产品名称：钼抛光液/金属钼抛光/激光反射镜抛光液/CMP研磨液/镜面抛光液
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面，研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
吉致可提供钼片/金属钼的镜面抛光液
1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果
2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性
3、钼片专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，
吉致电子金属钼抛光液可用于钢铁、化工、电子、航天、光学领域的钼片加工，达到优良的表面平坦度，抛光速率快、表面均一无缺陷。
*可以依客户不同工艺要求，提供定制化（177----06----168-----670李）服务
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无锡吉致电子科技有限公司主要研发生产产品为：抛光液、抛光垫等CMP化学机械研磨抛光材料，已有25年的研发经验。
产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘面板显示器等材质的表面深度处理，目前已发展为集研发、生产、销售于一体的现代工业科技企业。现已同多家500强企业建立合作伙伴关系，现员工已经达上百人，公司占地面积30.5亩，厂房面积约24000平方米。
产品质量管理执行ISO质量管理体系标准要求，严格管控每一环节。吉致公司采用精密技术，提供超高质量的产品，有效提高客户所需要的高选择比、高移除率、高平坦度、低缺陷要求。
